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2019-11-25 426 0

　　2019年11月21日，十九届“华创会”国际知识产权保护论坛在武汉东湖国际会议中心成功举办。

　　来自国家知识产权局、世界知识产权组织、业内专家学者、国际国内知名企业代表，来自“一带一路”国家留学生代表，以及来自中国、美国、日本、巴基斯坦、印度尼西亚等15个国家和地区的300余名国内外嘉宾出席；武汉长盛作为湖北省高价值知识产权培育工程入选企业受邀参会。

　　论坛上，世界知识产权组织中国办事处顾问邓玉华、日本贸易振兴机构北京代表处知识产权部部长山本英一、美国高通公司副总裁兼法律顾问约翰A·斯科特等分别围绕不同主题发表了演讲。演讲嘉宾和参会人员就新形势下加强知识产权保护，构建一流营商环境的新路径展开了充分热烈的交流。

　　本次论坛以“加强知识产权保护，构建一流营商环境”为主题，旨在深入开展知识产权保护国际交流合作，构建一流营商环境，助推湖北高质量发展。

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